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六硼化镧薄膜的制备及其物理特性表征

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采用LaB6陶瓷靶,在氩气气氛下利用直流磁控溅射制备玻璃基底的LaB6薄膜.利用X射线衍射、台阶仪、四探针电阻测试仪和红外发射率测量仪等测试手段对样品进行表征,研究基底温度、溅射功率对LaB6薄膜的晶体结构、导电性能及表面红外发射率等物理特性的影响,优化制备LaB6薄膜的工艺条件.

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来源
《2006北京国际材料周暨中国材料研讨会》|2006年|250-254|共5页
会议地点北京
作者
王丽玲; 刁训刚; 舒远杰;
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作者单位

中国材料研究学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类薄膜的生长、结构和外延;非金属导电材料、炭素材料;
关键词
磁控溅射; 六硼化镧薄膜; 导电薄膜; 红外发射率;

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