National Key Laboratory on High Power Semiconductor Lasers, Changchun University of Science and Technology, Changchun 130022, China;
National Key Laboratory on High Power Semiconductor Lasers, Changchun University of Science and Technology, Changchun 130022, China;
National Key Laboratory on High Power Semiconductor Lasers, Changchun University of Science and Technology, Changchun 130022, China;
National Key Laboratory on High Power Semiconductor asers, Changchun University of Science and Technology, Changchun 130022, China;
机译:利用XPS表征研究InAs / GaSb II型应变层超晶格的蚀刻后台面表面成分
机译:用于钝化II型InAs / GaSb超晶格台面的GaSb
机译:在创造多结太阳能电池期间分离间隔结构的湿化学蚀刻的开发方法
机译:汽轮MESA化学蚀刻研究
机译:铝的电化学隧道刻蚀中金属钝化控制的研究(腐蚀,钝化,点蚀电位,铝)。
机译:利用廉价的湿法刻蚀制造台面型石英晶体谐振器的实验研究
机译:电感耦合的CH 4 / H 2等离子体蚀刻工艺,用于米斯/汽油II型超晶片像素的MESA描绘
机译:NCms pWB项目报告表面完成团队任务WBs No.3.1.1:阶段1,蚀刻研究:化学蚀刻铜以提高可焊性