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宋柳琴; 贾文柱; 董婉; 张逸凡; 戴忠玲; 宋远红;
大连理工大学物理学院;
西南大学人工智能学院;
等离子体增强化学气相沉积; 薄膜沉积; 表面反应;
机译:通过等离子体增强化学气相沉积,用单一前体1,1,1,3,5,7,7,5-二氧化硅氧烷沉积的低k SicoH薄膜沉积。通过等离子体增强化学气相沉积,含有单次前体1,1,1,3,5,7,7,7八甲基-3,5-双(三甲基硅氧基)四硅氧烷
机译:双频感应耦合等离子体化学气相沉积法沉积氢化硅薄膜的研究
机译:用于MEMS的氢化非晶碳化硅薄膜的电感耦合等离子体增强化学气相沉积
机译:室温的组成依赖性1.54MUM MER〜3 +来自铒掺杂硅的发光:通过电子回旋共振等离子体沉积的氧薄膜增强化学气相沉积
机译:直流放电等离子体聚合动力学,薄膜性能和应用的研究以及通过射频等离子体聚合对二氧化硅粉末表面改性的初步研究。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:等离子体增强化学气相沉积氧氮化硅薄膜,用于光波导桥,用于机械传感器
机译:微波等离子体增强化学气相沉积法制备氮化硅晶体薄膜
机译:用于STI的高品质二氧化硅薄膜的形成以及用于HARPII的不同硅氧烷基质的前驱体的使用(远程等离子体增强型沉积工艺)
机译:低温下等离子体增强原子层沉积的二氧化硅薄膜沉积方法
机译:氧掺杂碳化硅薄膜的远程等离子体沉积
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