首页> 中文期刊> 《四川大学学报:自然科学版》 >后处理对近空间升华法制备CdS薄膜性能影响研究

后处理对近空间升华法制备CdS薄膜性能影响研究

         

摘要

将近空间升华法(CSS)沉积所得的CdS薄膜进行退火处理,利用XRD、SEM、暗电导温度关系研究不同退火条件对CdS多晶薄膜性能的影响.结果表明退火后CdS多晶薄膜在(002)面上具有择优取向;退火促使再结晶并促进晶粒长大;暗电导(dark-σ)随退火温度增加而增加,暗电导激活能(Ea)随退火温度的增加而减少.最后得到较优化的退火条件,获得适合作为CdTe太阳电池窗口层的CdS薄膜.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号