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机译:非本征场钝化在n型c-Si中的表面复合速度非常低
Department of Materials, University of Oxford, Parks Rd, OX1 3PH, Oxford, United Kingdom;
机译:非本征场钝化在n型c-Si中的表面复合速度非常低
机译:发行人注:“ n-型c-Si晶片的表面钝化是通过a-Si / SiO2 / SiNx叠层进行的,表面有效复合速度小于1 cm / s”。物理来吧103,183903(2013)]
机译:有效表面复合速度小于1 cm / s的a-Si / SiO2 / SiNx叠层对n型c-Si晶片进行表面钝化
机译:通过外部场效应钝化,N型中的最低表面重组氧化晶体硅
机译:低表面亮度星系的高分辨率光学速度场和暗物质晕的密度分布。
机译:钝化中的超低表面复合速度InGaAs / InP纳米柱
机译:通过超快速空间原子层沉积氧化铝,在p型和n型c-Si上的表面重组速度非常低
机译:2.5(Ω)cm硅晶片表面复合速度非常低,采用si氧化物和si氮化物的低温pECVD得到