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机译:溅射蒸发沉积的厚锂涂层的RNRA和中子阈值分析
University of Namur-FVNDP, LARN, Physics Department, Rue de Bruxelles 61, 5000 Namur, Belgium;
University of Namur-FVNDP, LARN, Physics Department, Rue de Bruxelles 61, 5000 Namur, Belgium;
University of Namur-FVNDP, LARN, Physics Department, Rue de Bruxelles 61, 5000 Namur, Belgium;
IB A, Chemin du Cyclotron, 3-1348 Louvain-la-Neuve, Belgium;
IB A, Chemin du Cyclotron, 3-1348 Louvain-la-Neuve, Belgium;
University of Namur-FVNDP, LARN, Physics Department, Rue de Bruxelles 61, 5000 Namur, Belgium;
lithium; RNRA; neutron threshold; depth profile; sputter evaporation;
机译:溅射沉积厚铟锡(ITO)涂料的纳米结构表征及光学性能
机译:混合调制脉冲功率和脉冲直流磁控溅射沉积的厚CrN / AlN超晶格涂层
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积厚CrN涂层的摩擦学行为
机译:使用等离子辅助蒸发,等离子辅助反应磁控溅射和离子束溅射生产高激光诱导损伤阈值镜面涂层
机译:用于高能激光器的离子束溅射沉积干涉涂层的抗光学损伤性能的进步。
机译:通过磁控溅射技术沉积在锂中子生产靶标上的钛涂层
机译:溅射蒸发沉积并暴露在空气中的厚锂涂层的分析
机译:涂层结构对溅射沉积氧化物涂层(ZrO sub 2 -Y sub 2 O sub 3; al sub 2 O sub 3 -Cr sub 2 O sub 3)的粘附性的影响。