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薄膜沉积设备及使用该薄膜沉积设备的薄膜沉积方法

摘要

本发明公开了一种薄膜沉积设备和使用该薄膜沉积设备的薄膜沉积方法。该薄膜沉积设备包括:室,被构造成具有安装在所述室中的基底;喷射单元,被构造成在室中移动且向基底喷射沉积蒸汽;以及源供应单元,被构造成向喷射单元供应沉积蒸汽的源。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-03

    授权

    授权

  • 2014-12-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20121228

    实质审查的生效

  • 2013-07-03

    公开

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