首页> 中国专利> 含有使用双酚醛的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物

含有使用双酚醛的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本发明的课题是提供用于形成具有高干蚀刻耐性与扭曲耐性，且对高低差、凹凸部显示良好的平坦化性、埋入性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，包含通过包含芳香族环的有机化合物A和醛B的反应得到的树脂，所述醛B具有至少2个具有酚式羟基的芳香族碳环基，且具有该芳香族碳环基通过叔碳原子结合而成的结构。醛B为下述式(1)。Ar

著录项

公开/公告号CN105209974B

专利类型发明专利
公开/公告日2020-05-29

原文格式PDF
申请/专利权人日产化学工业株式会社;
展开▼

申请/专利号CN201480025526.3
发明设计人远藤贵文;桥本圭祐;西卷裕和;坂本力丸;
展开▼

申请日2014-05-08
分类号
代理机构北京市中咨律师事务所;
代理人黄媛
地址日本东京都
入库时间 2022-08-23 10:59:49

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-05-29

授权

授权
2016-01-27

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/11 申请日:20140508

实质审查的生效
2015-12-30

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 含有使用双酚醛的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P] . 中国专利： CN105209974B . 2020.05.29
2. 含有芳香族乙烯基化合物加成的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P] . 中国专利： CN106133607B . 2020.01.03
3. Novolak resin-containing resist underlayer film forming composition using bisphenol aldehyde [P] . 日本专利： JP6332645B2 . 2018-05-30

机译：使用双酚醛的含酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成组合物
4. Novolak resin-containing resist underlayer film forming composition using bisphenol aldehyde [P] . 日本专利： JPWO2014185335A1 . 2017-02-23

机译：使用双酚醛的含酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成组合物
5. Novolac resin-containing resist underlayer film-forming composition using bisphenol aldehyde [P] . 美国专利： US10017664B2 . 2018-07-10

机译：使用双酚醛的含酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层成膜组合物